Diffraction Methods for challenging Photonics Applications at Carl Zeiss: An Overview

3. Industriegespräch Mittelhessen im Sommersemester 2015

Am Montag, den 13. Juli 2015, um 18:15 Uhr im Hörsaal III der Physikalischen Institute der JLU, Heinrich-Buff-Ring 14, 35392 Gießen hält Dr.-Ing. Bernd Kleemann, wissenschaftlicher Mitarbeiter der Abteilung „Corporate Research & Technology System Simulation der Carl Zeiss AG, seinen Vortrag über „Diffraction Methods for challenging Photonics Applications at Carl Zeiss: An Overview“.

Der Vortrag startet mit einem kurzen Überblick über das Zeiss-Portfolio und speziell über die Anforderungen der aktuellen EUV Lithographie.
Danach werden Diffraktive Anwendungen betrachtet:

1)     EUV-, Raumfahrt- (auch: Rosetta/Philae, James Webb), Synchrotron- und Laser-Gitter,
2)     Perfekter Blaze bei Echellegittern mit 100% Effizienz,
3)     DOEs zur Korrektion von Farbfehlern (auch: Breitband),
4)     Und: Simulationsmethoden dafür.

Nach dem Vortrag bietet ein kleiner Empfang im Foyer Zeit für Gespräche oder vertiefende Diskussionen. Die Teilnahme ist kostenlos, allerdings wird um Anmeldung bis zum Donnerstag, 09. Juli 2015 gebeten
unter http://www.dpg-physik.de/veranstaltungen/industriegespraeche.html

Die Industriegespräche Mittelhessen werden gemeinsam vom Arbeitskreis Industrie und Wirtschaft der DPG, dem Wetzlar Network, optence und dem VDI Bezirksverein Mittelhessen e.V. organisiert.

Das Organisationsgremium kann über Dr. Gert Homm, E-Mail: gert.homm@isc.fraunhofer.de kontaktiert werden.