EOS Optical Technologies Conferences

Submission for EOS Optical Technologies Conferences is open!

EOS will once again hold four conferences in Munich, June 26-29, 2017:

EOS Conference on Manufacturing of Optical Systems

EOS Conference on Optofluidics

EOS Conference on Light Engineering

EOS Conference on Optomechanical Engineering

Location: Munich, Germany,
Duration: 26 June 2017 - 29 June 2017
Submission Timeframe: 17 October 2016 - 29 January 2017



Abstracts should be submitted online via Conftool:
Pre-registration: opens March 2017

EOS Optical Technologies

Advancements in technology and innovative manufacturing processes are crucial for optical sector growth in today's global markets. Markets with high developmental momentum include the energy and semiconductor, life sciences, health care and the agri-food industries. Optical technologies play a crucial role in these markets, the importance of sophisticated but economically priced optical components being vital to new products and applications.

Abstract Submission

Submit to:
Abstract Submission: 17 October - 29 January 2017

Abstracts can only be submitted online via Conftool:

Authors are requested to submit an extended abstract of two pages with at least one figure. The abstract must be formatted according to the EOS abstract guidelines, which can be downloaded here.

You might wish to use either the Word or LaTeX template.

Contributions will be accepted for oral and poster presentations (please indicate your preference). For Manufacturing of Optical Systems, industrial posters are also welcome. At least one author is requested to register for the meeting separately from the abstract submission. The registration includes admission to all Topical Meetings, sessions and additional program.

EOS Conference on Manufacturing of Optical Systems

Manufacturing of Optical Systems will highlight significant technology trends, emerging technologies and associated prospective developments in the field of optics fabrication and testing. This conference provides a forum for all aspects of optics fabrication and testing, ranging from micro to large-scale optics and from high value one-off to mass-produced components including lessons learned papers on special manufacturing issues such as polishing process stability and finishing processes for high-end optics, optics featuring clear apertures below 1 mm or above 100 mm in diameter. One main goal of the meeting is to provide a better link between the design, the manufacturing, and the characterization of optical components and systems. For the first time, there will be a reviewed industrial poster session displayed during the whole conference with companies presenting their key technology competences.
General Chair: Oliver Fähnle, FISBA OPTIK AG (CH)
Co-Chair: Sven Schröder, Fraunhofer IOF (DE)

Topics include

Optics Fabrication, from single piece to High-Volume Fab, from sub-millimeter optics to meter optics and wafer-level optics Testing, Specification, and Characterization of Light Scattering,
Roughness, Shape, Defects, subsurface damage, MTF and mid-spatials
Finishing methods, e.g. SPDT, MRF, IBF, ductile grinding, FJP, laser polishing, CCP and traditional polishing
Optimization techniques in optics fabrication
Fabrication friendly Optical Design and Tolerancing
Lessons learned producing high level aspheres and freeform optics

Industrial poster session

For the first time, there will be a reviewed industrial poster session being organized where companies are entitled to present their key technology competences on a poster that will be presented during the whole time of the conference in the conference session room. Posters presenting competences and know how rather than products will be preferred.

EOS Conference on Optofluidics

Optofluidics emerged approximately 10 years ago aiming at the fusion of integrated optics with microfluidics. Since then, a wealth of new scientific principles and technologies have emerged. Through this conference, the latest developments in Optofluidics will be explored, serving as the main meeting point of the international optofluidics community.
General chair: Demetri Psaltis, École Polytechnique Fédérale de Lausanne (EPFL) (CH)
Co-chair: Andreas Vasdekis, University of Idaho (US)

Program committee

Xudong Fan, University of Michigan
Pietro Ferraro, Italian National Institute of Optics    
David Sinton, University of Toronto
A. Q. Liu, Nanyang Technological University
Christian Karnutsch, Karlsruhe University of Applied Sciences
Ian White, University of Maryland

Topics include

Photonics: fundamental linear and non-linear optics, lasers, sensors, microscopy, opt. Tweezers
Medicine and Biology: single cell, viral and molecule methods, drug delivery, ultra-high throughput screening
Imaging: time-stretch imaging, Big-Data approaches
Handheld Devices for low-resource settings: mHealth, portable diagnostics
Environment – Energy: optofluidics of plants, photobioreactors, biophysics
Transport: optics, microfluidics, computational methods
Microsystem Fabrication
Novel prototyping methods, 3D and 4D particle generation, BioMEMS
Hybrid Integration: integrated optics (SERS, waveguides), electronics, and applications
Soft Matter: liquid crystals, vesicle photonics
Industry: industrial applications, related technologies and products

EOS Conference on Light Engineering

The focus of this conference will be to explore new developments in the field of light engineering for a variety of applications, including solid state lighting.
General chair: Paul Urbach, Delft University of Technology (NL)
Co-chair: Wilbert Ijzerman, Philips (NL)
Co-chair: Willem Vos, University of Twente (NL)

Topics include

Non-imaging optics
Diffractive optics for SSL
Optical materials
Optical design
New materials
Color quality
Nano-structing of (O)LEDs
Lifetime and stability
Microfluidic lasers

EOS Conference on Optomechanical Engineering

Optomechanical Engineering, the branch of Optical Engineering related to the simulation and construction of complete optical systems, is a key discipline in most fields of optics and photonics. The building of instrumentation which needs to work in real-world environments, from space to underwater or inside the human body, strongly relies in the approaches taken to compensate the effects of hostile environments. Optomechanical Engineering will bring on the most relevant experts and approaches of this evolving field in the land between optics and mechanics. Contributions on simulation methods (mechanical, optical, thermal, etc.) tolerancing for optomechanics, novel assembly methods and materials, design strategies, and use cases are welcome. The aim of the conference is to bring together the vibrant community of optomechanical engineers working in fields as diverse as aerospace and medicine to share methods and experiences and exchange practical knowledge.

General Chair: Santiago Royo, Centre for Sensors, Instruments and Systems Development (CD6), UPC-BarcelonaTech (ES)
Co-chair: Michael Pfeffer, University of Applied Sciences Ravensburg-Weingarten (DE)

Program Committee
Josep Arasa, SnellOptics Ltd. (ES)
James H. Burge, College of Optical Sciences, The University of Arizona (US)
Chris Dainty, University College, London (UK)
Marta C. de la Fuente, INDRA Systems (ES)
Alson E. Hatheway, AEH Inc. (US)
Peter Kühmstedt, Fraunhofer IOF Jena (DE)
Paul R. Yoder, Jr., Consultant (US)
Bob Breault, BRO Inc. (US)

Topics include

Simulation of optomechanical systems
Optomechanical systems in hostile environments
Modelling and mitigation of environemtal effects
Novel methods and geometries for real-world optics
Metrology of optomechanical components
Use cases of optomechanical design
New methods and materials for optomechanical construction

Paper Publication in JEOS:RP

Presenters at EOS Optical Technologies are kindly invited to consider the submission of a manuscript about their research to the EOS open-access on-line journal JEOS: RP (Journal of the European Optical Society, Rapid Publications,

JEOS:RP publishes articles about recent scientific research and technological innovation as well as review papers about a topic in science or innovation from the recent past. A contribution should be original and will be subjected to the journal’s standard anonymous peer review process for scientific quality. The average time-to-publication of the journal is of the order of 75 days.

Fee for EOS Members: 950 EUR

World of Photonics Congress 2017

The EOS Conferences on Optical Technologies will be taking place under the umbrella of the World of Photonics Congress (25-29 June 2017), the leading international congress for optical technologies in Europe and one of the top 3 congresses of its kind worldwide. It is organised by Messe München International and held in conjunction with LASER World of PHOTONICS (26-29 June 2017), the international trade fair for optical technologies including components, systems and applications, so there is an intense exchange between the scientific and industrial sectors.

Venue: ICM - International Congress Centre Munich; Messegelände, 81823 München, DE

The International Congress Centre Munich (ICM) is integrated into the Munich Trade Fair Centre and is one of the most modern congress centres in the world. It can easily be reached by public transport.

The registration for EOS Optical Technologies conferences includes admission to all conferences at the World of Photonics Congress as well as to the LASER World of Photonics trade fair. At least one author of an accepted contribution is required to register in advance to the conference. The pre-registration opens in March 2017.

8th High Level Expert Meeting - Asphere Metrology 2017

Das Kompetenzzentrum Ultrapräzise Oberflächen veranstaltet auf grund des großen Interesses und Erfolges im nächsten Jahr wieder das High-Level Experts Meeting (HLEM) an der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt in Braunschweig.

Termin: 14. und 15 März 2017

Weitere Informationen:  

oder direkt bei der Veranstaltungsseite:

Bitte beachten Sie die Deadline zur Einreichung eines Abstracts 15. Oktober 2016.


Optisches Glas

Am 8. März 2017 findet eine Cetip Weiterbildung zum Thema „Optisches Glas“ statt.

Veranstaltungsort: SCALA Panoramabankett, JenTower 27.-29. OG, Leutragraben 1, 07743 Jena

Referent: Dr. Peter Hartmann, SCHOTT AG

Optisches Glas ist das Schlüsselmaterial, das in optischen Systemen die Abbildung bewirkt und ihre Eigenschaften bestimmt. Mikroskope, Ferngläser, Fotokameras, Projektoren, Mess- und Bilderfassungsobjektive in industriellen Anwendungen sind Beispiele in denen optisches Glas unerlässlich ist.

Hier finden Sie nähere Informationen zu den Kursinhalten.
Anmeldung: Online-Buchung oder per Fax.

Die Veranstaltung findet in Kooperation mit OptoNet e.V. Photoniknetzwerk Thüringen statt.

Eine Übersicht über alle unsere Weiterbildungsveranstaltungen finden Sie auf unserer Cetip Homepage.

Erweiterte Grundlagen der LED-Technik

Optence bietet während der W3+ Fair im Rahmen des Messebegleitprogramms u.a. folgenden Short Course „Erweitere Grundlagen der LED-Technik“ an.

Referent: Dr. Uwe Slabke, LED Institut

Termin: 21. Februar 2017, Uhrzeit: 10:00 Uhr – 13:00 Uhr, Kosten (inkl. Eintritt zur Messe): 170,00 Euro (Mitglieder regionale Kompetenznetze); 190,00 Euro (Andere).


  1. Grundlagen der neuesten LED-Bauelemente und LED Systeme und deren Grenzen
  2. Grundlagen Lichttechnik, Optische und thermische Rahmenbedingungen, Garantie, Lebensdauer, Flickern, aktuelle Normensituation, Binning
  3. Vorschaltgeräte und internetbasierte Systeme, Zuverlässigkeit, Fehlerfälle

Hier bekommen Sie die erweiterten Grundlagen für die Auswahl von LED Produkten und das nötige Hintergrundwissen dazu. Lernen Sie die aktuellen Vorteile der LED-Technologie kennen und nutzen Sie dieses Wissen für Ihr Unternehmen.

Weitere Informationen: Flyer / Online Anmeldung

Bitte melden Sie sich rechtzeitig an, die Plätze sind begrenzt.

Weiterbildung: Messung von Spannungsdoppelbrechung

Im Rahmen des Messebegleitprogramms während der W3+ Fair in Wetzlar als interdisziplinäre Netzwerkmesse für Optik, Elektronik und Mechanik bietet Optence u.a. folgende eintägige Weiterbildung „Messung  von Spannungsdoppelbrechung in optischen Komponenten – Theorie und Praxis“ an.

Referenten: Dr. Hans-Martin Heuck, Leica Microsystems CMS GmbH und Henning Katte, ilis GmbH

Termin: 21. Februar 2017, Uhrzeit: 10:00 Uhr – 17:30 Uhr, Kosten (inkl. Eintritt zur Messe): 450,00 Euro (Mitglieder regionale Kompetenznetze); 490,00 Euro (Andere).


In dem eintägigen Seminar werden die Grundlagen der Messung von (Spannungs-) Doppelbrechung vermittelt und auf die Auswertung und Interpretation der Ergebnisse sowie auf typische Problemfälle eingegangen. Der theoretische Teil wird durch eine Vielzahl von praktischen Übungen ergänzt.

Weitere Informationen und Anmeldung unter:.pdf

W3+ FAIR 2017

Am 21. und 22. Februar 2017 findet die Netzwerkmesse W3+FAIR  in Wetzlar statt.

Plattform für Präzisionstechnologien lockt nationale und internationale Besucher nach Wetzlar 

Zwei Tage lang wird Wetzlar zum zentralen Treffpunkt für die zukunftsweisenden Industrien Optik, Elektronik und Mechanik. Über 3000 Experten aus 10 Ländern werden auf der innovativen Fachmesse in 2017 erwartet. Kostenfreie Vorträge fachkundiger Referenten bringen den Teilnehmern einen enormen Wissensvorschub. Hessische Unternehmen treffen beim Business Matching auf ausländische Delegationen. Große Chance für alle Unternehmen: Das ELI-Beamlines Laserprojekt in Dolní Břežany bei Prag lädt ein, am stärksten Laser der Welt mit zu entwickeln.

Weitere Informationen:



460. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 460. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 14. Februar 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Prof. Dr. Bernhard Roth, Hannoversches Zentrum fuer Optische Technologien, Leibniz Universitaet Hannover,spricht zum Thema

"Auf dem Weg zu planar-optronischer Polymersensorik".

Weitere Informationen:.pdf

EMVA Schulungstermine

Im Februar startet wieder das Schulungsprogramm 2017 mit den drei bewährten Schu­lungen zum Standard EMVA 1288 zur objektiven Charakterisierung von Kameras und Bildsensoren.

Sie erhalten durch den Referenten Prof. Dr. Bernd Jähne, dem Vorsitzenden des Standardisie­rungskomitees, kompetente Informationen aus erster Hand, aktuell ange­passt an das neue Release 3.1, das seit 30. Dezember 2016 die offizielle Version des Standards ist. Daher be­handelt der Grundkurs gezielt die Neuerungen von Release 3.1, und die praktischen De­monstra­tionen im Aufbaukurs verwenden ebenfalls das neue Release. Beide Kurse sind daher die ideale Gelegenheit, die neue Version des Standards 1288 kennenzulernen.

Die Schulungen werden üblicherweise in deutscher Sprache durchgeführt, aber Sie ha­ben die Wahl zwischen deutsch- und englischsprachigen Kursunterlagen (Handouts und digital).

Hier die nächsten Kurstermine:

Mittwoch, 8. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Bildsensoren (empfohlen als Vorkurs zu den nachfolgenden Schulungen)

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Vorkurs Bildsensoren

Donnerstag, 9. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - GRUNDKURS

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Grundkurs

Freitag, 10. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - AUFBAUKURS

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Aufbaukurs

Bei Buchung von zwei oder allen drei EMVA-1288-Schulungen erhalten Sie 15% bzw. 25% Rabatt!

EMVA Industrie-Mitglieder erhalten einen weiteren Rabatt von bis zu 100,00 Euro brutto pro EMVA-1288-Kurs!

459. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 459. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 17. Januar 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG.

Herr Dr. Peter Hartmann, Schott AG, Mainz, spricht zum Thema

"Optische Materialien - Fortschritte eröffnen neue Möglichkeiten in Forschung und Anwendung".

Weitere Informationen: .pdf


Plan der Zeiss-Optikkolloquien im 1. Halbjahr 2017:Plan_2017_0.pdf

458. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 458. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 06. Dezember 2016, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Dr. Christof Fattinger, Roche Innovation Center Basel, Schweiz, spricht zum Thema

"Molographie: Kohaerente Erkennung biomolekularer Wechselwirkungen".

Weitere Infomationen: .pdf

Den Vortragsplan für das erste Halbjahr 2017 finden Sie hier: Plan_2017.pdf