Veranstaltungen

Schulungen zum internationalen Standard EMVA 1288 zur objektiven Charakterisierung von Bildsensoren und Kameras

Im September 2015 bietet AEON mehrere Weiterbildungskurse in der Bildverarbeitung an. Referent ist Prof. Dr. Bernd Jähne  (Universität Heidelberg, HCI).

Thema: Bildsensoren (empfohlen als Vorkurs zu den EMVA-1288-Schulungen)
Datum: Dienstag, 15. September 2015 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Inhalt: http://www.aeon.de/pdf/Schulung_EMVA_2015_bildsensoren.pdf

Thema: Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA-1288 - GRUNDKURS
Datum: Mittwoch, 16. September 2015 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Inhalt: http://www.aeon.de/pdf/Schulung_EMVA_2015_grundkurs.pdf

Thema: Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA-1288 - AUFBAUKURS
Datum: Donnerstag, 17. September 2015 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Inhalt: http://www.aeon.de/pdf/Schulung_EMVA_2015_Aufbau.pdf

Bei Buchung von zwei der drei EMVA-1288-Schulungen erhalten Sie 15%,
bei Buchung von allen drei EMVA-1288-Schulungen erhalten Sie 25% Rabatt!

Zur Online-Anmeldung (EMVA-1288-Schulungen)

 

Weitere Kurse

Thema: Technische Optik für Bildverarbeiter
Datum: Dienstag, 22. September 2015 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Referent: Prof. Dr. Bernd Jähne, HCI, Universität Heidelberg
Inhalt: http://www.aeon.de/pdf/Schulung_TechnOptik_2015.pdf

Thema: Computational Imaging
Datum: Mittwoch, 23. September 2015 von 10:00 bis 17:00 Uhr
Referent: Prof. Dr. Bernd Jähne, HCI, Universität Heidelberg
Inhalt: http://www.aeon.de/pdf/Schulung_ComputImaging_2015.pdf

Bei Buchung von beiden Schulungen (Technische Optik für Bildverarbeiter
UND Computational Imaging) erhalten Sie 15% Rabatt!

Zur Online-Anmeldung (weitere Schulungen)

Microscopy Conference (MC) 2015

The Microscopy Conference 2015 will take place in September 6-11, 2015 in Göttingen (Germany).

Topics:
Instrumentation and Methods
Materials Science
Life Sciences
Multimodal, Interdisciplinary Microscopies

Venue:
Georg-August-University Göttingen
Zentrales Hörsaalgebäude
Platz der Göttinger Sieben 5
37073 Göttingen/Germany

Organizer
DGE - German Society for Electron Microscopy e. V.

Conference Chair
Prof. Michael Seibt
Analytical and High-Resolution TEM
Georg-August-University Göttingen
Faculty of Physics
 

Further information: pdf

Diffraction Methods for challenging Photonics Applications at Carl Zeiss: An Overview

3. Industriegespräch Mittelhessen im Sommersemester 2015

Am Montag, den 13. Juli 2015, um 18:15 Uhr im Hörsaal III der Physikalischen Institute der JLU, Heinrich-Buff-Ring 14, 35392 Gießen hält Dr.-Ing. Bernd Kleemann, wissenschaftlicher Mitarbeiter der Abteilung „Corporate Research & Technology System Simulation der Carl Zeiss AG, seinen Vortrag über „Diffraction Methods for challenging Photonics Applications at Carl Zeiss: An Overview“.

Der Vortrag startet mit einem kurzen Überblick über das Zeiss-Portfolio und speziell über die Anforderungen der aktuellen EUV Lithographie.
Danach werden Diffraktive Anwendungen betrachtet:

1)     EUV-, Raumfahrt- (auch: Rosetta/Philae, James Webb), Synchrotron- und Laser-Gitter,
2)     Perfekter Blaze bei Echellegittern mit 100% Effizienz,
3)     DOEs zur Korrektion von Farbfehlern (auch: Breitband),
4)     Und: Simulationsmethoden dafür.

Nach dem Vortrag bietet ein kleiner Empfang im Foyer Zeit für Gespräche oder vertiefende Diskussionen. Die Teilnahme ist kostenlos, allerdings wird um Anmeldung bis zum Donnerstag, 09. Juli 2015 gebeten
unter http://www.dpg-physik.de/veranstaltungen/industriegespraeche.html

Die Industriegespräche Mittelhessen werden gemeinsam vom Arbeitskreis Industrie und Wirtschaft der DPG, dem Wetzlar Network, optence und dem VDI Bezirksverein Mittelhessen e.V. organisiert.

Das Organisationsgremium kann über Dr. Gert Homm, E-Mail: gert.homm@isc.fraunhofer.de kontaktiert werden.

Laser World of Photonics

Die Fachmesse Laser World of Photonics findet vom 22. bis 25. Juni 2015 in München, Messe München statt.

Des Weiteren die 22. Weltleitmesse und Kongress für Komponenten, Systeme und Anwendungen der Optischen Technologien vom 22. bis 25. Juni 2015 und

22nd International Trade fair and Congress for Optical Technologies - Components, Systems and applications, June 22-25, 2015.

 

Weitere Informationen: http://world-of-photonics.com/

444. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 444. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium am Dienstag, dem 16. Juni 2015, um 15.30 Uhr im Aktionsraum der Carl Zeiss AG statt.
Herr Prof. Dr. Martin M. Roth, Leibniz-Institut für Astrophysik und Universität Potsdam, spricht zum Thema

"Fasersensorik und Vielkanalspektroskopie".

 

Weiteres hier:.pdf

443. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 443. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 19. Mai 2015, um 15.30 Uhr im Aktionsraum der Carl Zeiss AG statt. Es spricht Herr Dr. Hans Lochbihler, Papierfabrik Louisenthal GmbH, Gmund am Tegernsee, zum Thema

"Von Strukturfarben in der Natur zu neuartigen Sicherheitsmerkmalen für Banknoten".

Weitere Informationen finden Sie hier: pdf

Einladung Max-Planck-Forum

Das Max-Planck Forum lädt zu ein zu einer Veranstaltung zum Thema Internet: „Wird das Internet wirklich sicher? Verschlüsselungen auf dem Prüfstand“. Das Max-Planck-Forum ist zu Gast in Nürnberg im Museum für Kommunikation am 07.05.2015.

Prof. Dr. Gerd Leuchs,Direktor am Max-Planck-Institut für die Physik des Lichts, Erlangen und
Prof. Dr. Michael Backes, Professor an der Universität des Saarlands und Fellow am Max-Planck-Institut für Software Saarbrücken äußern sich zu diesem Thema im Rahmen eines Podiumsgespräches. Die Moderation führt Peter Welchering.

Weitere Informationen finden Sie hier: pdf

Einführung in die Interferometrie in Theorie und Praxis

Das zweitätige Seminar findet am 28. und 29. April 2015 statt.

Veranstaltungsort: ZygoLOT GmbH, Im Tiefen See 59 in Darmstadt

Referent:  Dr. Hans-Martin Heuck

In der Fertigung optischer Bauteile werden in erster Linie interferometrische  Mess- und Prüfverfahren wie z. B. Probeglas, Fizeau- sowie Twyman-Green-Interferometer genutzt, um globale (Radienabweichung) und lokale Formabweichung (Unregelmäßigkeit IRR, rotationssymmetrische Unregelmäßigkeit RSI) sowie Wellenfront- und Winkelabweichungen nach DIN/ISO 10110 zu bestimmen.

Hohe Anforderungen, beispielsweise 3/1(0.2/0.2) also peak-to-valley 10=54 nm für IRR bzw. RSI, erfordern eine numerische Auswertung nach ISO 10110. Entsprechend dem eingesetzten Schleif- und Polierverfahren treten typische Fehlerbilder auf, die eine detailliertere Auswertung erfordern.

In dem zweitägigen Seminar werden die Grundlagen der Interferometrie vermittelt und auf die Auswertung und Interpretation der Ergebnisse sowie auf typische Problemfälle eingegangen. Begleitet wird die Theorie mit ausführlichen praktischen Übungen.

Hier finden Sie nähere Informationen zu den Kursinhalten und unseren Veranstaltungsflyer.

Hier geht es zur Online Buchung
Kosten: 830,00 Euro zzgl. MwSt. für Mitglieder der Kompetenznetze Optische Technologien, 990,00 Euro zzgl. MwSt. für alle anderen. (inkl. Weiterbildungsunterlagen, Verpflegung und gemeinsamen Abendessen)

Eine Übersicht über alle unsere Weiterbildungsveranstaltungen, die in diesem Jahr noch angeboten werden, finden Sie auf unserer Cetip Homepage.

Optik-Design mit ZEMAX – Nicht sequentielle Strahldurchrechnung

Das zweitätige Seminar findet am 21. und 22. April 2015 statt.

Veranstaltungsort: Schenck Technologie- und Industriepark, Raum 308, Landwehrstr. 55, 64293 Darmstadt

Referent: Prof. Dr. Peter Kohns

Dieser Kurs vertieft spezielle Themen im Umgang mit der Software ZEMAX.

Kursinhalt ist die nicht-sequentielle Strahldurchrechnung, die zum Beispiel zur Analyse von Beleuchtungsoptiken und zur Untersuchung von Streulicht verwendet werden kann. Die wichtigen Anwendungsgebiete Streuung, Strahlteilung, Optimierung und Farbrechnung werden besprochen.

Die Teilnehmer sollten über Grundkenntnisse im Umgang mit ZEMAX verfügen (Eingabe sphärischer axial-symmetrischer Systeme, Optimierung mit Default-Funktion). Die Grundfunktionen von ZEMAX werden zu Beginn des Kurses anhand zweier einfacher Beispiele besprochen.

Die Benutzeroberfläche von ZEMAX wurde im Frühjahr 2014 überarbeitet und das Programm in „OpticStudio“ umbenannt. Der Kurs und das dazugehörige Skript wurden sowohl für das klassische ZEMAX als auch für OpticStudio erstellt, so dass auch Benutzern älterer ZEMAX Versionen die Kursteilnahme möglich ist. Im Kurs werden Hinweise für den Umstieg von ZEMAX auf OpticStudio gegeben.

Hier finden Sie nähere Informationen zu den Kursinhalten und unseren Veranstaltungsflyer.

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Kosten: 830,00 Euro zzgl. MwSt. für Mitglieder der Kompetenznetze Optische Technologien, 990,00 Euro zzgl. MwSt. für alle anderen. (inkl. Weiterbildungsunterlagen, Verpflegung und gemeinsamen Abendessen)

Eine Übersicht über alle unsere Weiterbildungsveranstaltungen, die in diesem Jahr noch angeboten werden, finden Sie auf unserer Cetip Homepage.

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