Veranstaltungen

8th High Level Expert Meeting - Asphere Metrology 2017

Das Kompetenzzentrum Ultrapräzise Oberflächen veranstaltet auf grund des großen Interesses und Erfolges im nächsten Jahr wieder das High-Level Experts Meeting (HLEM) an der Physikalisch-Technischen Bundesanstalt in Braunschweig.

Termin: 14. und 15 März 2017

Weitere Informationen: http://www.upob.de  

oder direkt bei der Veranstaltungsseite: http://www.upob.de/index.php?option=com_jem&view=event&id=455:8th-high-level-expert-meeting-asphere-metrology

Bitte beachten Sie die Deadline zur Einreichung eines Abstracts 15. Oktober 2016.

 

Optisches Glas

Am 8. März 2017 findet eine Cetip Weiterbildung zum Thema „Optisches Glas“ statt.

Veranstaltungsort: SCALA Panoramabankett, JenTower 27.-29. OG, Leutragraben 1, 07743 Jena

Referent: Dr. Peter Hartmann, SCHOTT AG

Optisches Glas ist das Schlüsselmaterial, das in optischen Systemen die Abbildung bewirkt und ihre Eigenschaften bestimmt. Mikroskope, Ferngläser, Fotokameras, Projektoren, Mess- und Bilderfassungsobjektive in industriellen Anwendungen sind Beispiele in denen optisches Glas unerlässlich ist.

Hier finden Sie nähere Informationen zu den Kursinhalten.
Veranstaltungsflyer.
Anmeldung: Online-Buchung oder per Fax.

Die Veranstaltung findet in Kooperation mit OptoNet e.V. Photoniknetzwerk Thüringen statt.

Eine Übersicht über alle unsere Weiterbildungsveranstaltungen finden Sie auf unserer Cetip Homepage.

461. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 461. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 07. Maerz 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Dr. Rainer Riesenberg, Leibniz-Institut fuer Photonische Technologien, Jena, spricht zum Thema

"Digitale holographische Mikroskopie".

Weitere Informationene: .pdf

Weiterbildung: Messung von Spannungsdoppelbrechung

Im Rahmen des Messebegleitprogramms während der W3+ Fair in Wetzlar als interdisziplinäre Netzwerkmesse für Optik, Elektronik und Mechanik bietet Optence u.a. folgende eintägige Weiterbildung „Messung  von Spannungsdoppelbrechung in optischen Komponenten – Theorie und Praxis“ an.

Referenten: Dr. Hans-Martin Heuck, Leica Microsystems CMS GmbH und Henning Katte, ilis GmbH

Termin: 21. Februar 2017, Uhrzeit: 10:00 Uhr – 17:30 Uhr, Kosten (inkl. Eintritt zur Messe): 450,00 Euro (Mitglieder regionale Kompetenznetze); 490,00 Euro (Andere).

Kursinhalt:

In dem eintägigen Seminar werden die Grundlagen der Messung von (Spannungs-) Doppelbrechung vermittelt und auf die Auswertung und Interpretation der Ergebnisse sowie auf typische Problemfälle eingegangen. Der theoretische Teil wird durch eine Vielzahl von praktischen Übungen ergänzt.

Weitere Informationen und Anmeldung unter:.pdf

Erweiterte Grundlagen der LED-Technik

Optence bietet während der W3+ Fair im Rahmen des Messebegleitprogramms u.a. folgenden Short Course „Erweitere Grundlagen der LED-Technik“ an.

Referent: Dr. Uwe Slabke, LED Institut

Termin: 21. Februar 2017, Uhrzeit: 10:00 Uhr – 13:00 Uhr, Kosten (inkl. Eintritt zur Messe): 170,00 Euro (Mitglieder regionale Kompetenznetze); 190,00 Euro (Andere).

Inhalt:

  1. Grundlagen der neuesten LED-Bauelemente und LED Systeme und deren Grenzen
  2. Grundlagen Lichttechnik, Optische und thermische Rahmenbedingungen, Garantie, Lebensdauer, Flickern, aktuelle Normensituation, Binning
  3. Vorschaltgeräte und internetbasierte Systeme, Zuverlässigkeit, Fehlerfälle

Hier bekommen Sie die erweiterten Grundlagen für die Auswahl von LED Produkten und das nötige Hintergrundwissen dazu. Lernen Sie die aktuellen Vorteile der LED-Technologie kennen und nutzen Sie dieses Wissen für Ihr Unternehmen.

Weitere Informationen: Flyer / Online Anmeldung

Bitte melden Sie sich rechtzeitig an, die Plätze sind begrenzt.

W3+ FAIR 2017

Am 21. und 22. Februar 2017 findet die Netzwerkmesse W3+FAIR  in Wetzlar statt.

Plattform für Präzisionstechnologien lockt nationale und internationale Besucher nach Wetzlar 

Zwei Tage lang wird Wetzlar zum zentralen Treffpunkt für die zukunftsweisenden Industrien Optik, Elektronik und Mechanik. Über 3000 Experten aus 10 Ländern werden auf der innovativen Fachmesse in 2017 erwartet. Kostenfreie Vorträge fachkundiger Referenten bringen den Teilnehmern einen enormen Wissensvorschub. Hessische Unternehmen treffen beim Business Matching auf ausländische Delegationen. Große Chance für alle Unternehmen: Das ELI-Beamlines Laserprojekt in Dolní Břežany bei Prag lädt ein, am stärksten Laser der Welt mit zu entwickeln.

Weitere Informationen: www.w3-messe.de

 

 

460. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 460. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 14. Februar 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Prof. Dr. Bernhard Roth, Hannoversches Zentrum fuer Optische Technologien, Leibniz Universitaet Hannover,spricht zum Thema

"Auf dem Weg zu planar-optronischer Polymersensorik".

Weitere Informationen:.pdf

EMVA Schulungstermine

Im Februar startet wieder das Schulungsprogramm 2017 mit den drei bewährten Schu­lungen zum Standard EMVA 1288 zur objektiven Charakterisierung von Kameras und Bildsensoren.

Sie erhalten durch den Referenten Prof. Dr. Bernd Jähne, dem Vorsitzenden des Standardisie­rungskomitees, kompetente Informationen aus erster Hand, aktuell ange­passt an das neue Release 3.1, das seit 30. Dezember 2016 die offizielle Version des Standards ist. Daher be­handelt der Grundkurs gezielt die Neuerungen von Release 3.1, und die praktischen De­monstra­tionen im Aufbaukurs verwenden ebenfalls das neue Release. Beide Kurse sind daher die ideale Gelegenheit, die neue Version des Standards 1288 kennenzulernen.

Die Schulungen werden üblicherweise in deutscher Sprache durchgeführt, aber Sie ha­ben die Wahl zwischen deutsch- und englischsprachigen Kursunterlagen (Handouts und digital).

Hier die nächsten Kurstermine:

Mittwoch, 8. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Bildsensoren (empfohlen als Vorkurs zu den nachfolgenden Schulungen)

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Vorkurs Bildsensoren

Donnerstag, 9. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - GRUNDKURS

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Grundkurs

Freitag, 10. Februar 2017 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - AUFBAUKURS

Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Aufbaukurs

Bei Buchung von zwei oder allen drei EMVA-1288-Schulungen erhalten Sie 15% bzw. 25% Rabatt!

EMVA Industrie-Mitglieder erhalten einen weiteren Rabatt von bis zu 100,00 Euro brutto pro EMVA-1288-Kurs!

459. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 459. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 17. Januar 2017, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG.

Herr Dr. Peter Hartmann, Schott AG, Mainz, spricht zum Thema

"Optische Materialien - Fortschritte eröffnen neue Möglichkeiten in Forschung und Anwendung".

Weitere Informationen: .pdf

 

Plan der Zeiss-Optikkolloquien im 1. Halbjahr 2017:Plan_2017_0.pdf

458. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 458. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 06. Dezember 2016, um 15.30 Uhr im Besucherzentrum/Innovationsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Dr. Christof Fattinger, Roche Innovation Center Basel, Schweiz, spricht zum Thema

"Molographie: Kohaerente Erkennung biomolekularer Wechselwirkungen".

Weitere Infomationen: .pdf

Den Vortragsplan für das erste Halbjahr 2017 finden Sie hier: Plan_2017.pdf

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