Veranstaltungen

The European Optical Society Bi-Annual Meeting 2016 (EOSAM)

Call for papers. EOSAM 2016, 26-30 September

The European Optical Society Bi-Annual Meeting 2016 (EOSAM)
 
Location: Adlershof con. vent. Exhibition Centre - Rudower Chaussee, 17 - 12489 Berlin, Germany
Duration: 26 September 2016 - 30 September 2016
Submission Deadline: 30 April 2016

TOM 1 - Silicon Photonics and Guided-Wave Optics

TOM 2 - Freeform Optics  

TOM 3 - Optical System Design and Tolerancing

TOM 4 - Diffractive Optics

TOM 5 - Trends in Resonant Nanophotonics

TOM 6 - Frontiers in Optical Metrology

TOM 7 - Organic & Hybrid Semiconductor Materials and Devices

TOM 8 - Adaptive Optics and Advanced Illumination Imaging

EOSAM SPECIAL EVENTS

TUTORIALS ON TOM TOPICS

INDUSTRIAL EXHIBITION
Wednesday, 28 September - Thursday, 29 September
Book your exhibition space today: info@myeos.org

GRAND CHALLENGES OF PHOTONICS SESSION
For the fifth time, a special session of EOSAM is dedicated to the “Grand Challenges of Photonics ". In this session world-class speakers are going to talk about technologies which are revolutionary, uncommon and not realizable to date, but can pave the way for an even brighter future in optics and photonics.

EU PROJECT RESULT DISSEMINATION SESSION
Partners in EU projects are invited to present their results in this special session.

EOS ANNUAL GENERAL ASSEMBLY

FELLOWS CEREMONY

AWARD CEREMONIES

ABSTRACT SUBMISSION

Submit to:  www.conftool.com/eosam2016
Deadline for abstract submission: 30 April 2016
Notification to authors: 15 June 2016

Abstracts can only be submitted online via Conftool: www.conftool.com/eosam2016
Authors are requested to submit an extended abstract of two pages with at least one figure. The abstract must be formatted according to the EOS abstract guidelines, which can be downloaded here.
You might wish to use either the Word or LaTeX template.
Contributions will be accepted for oral and poster presentations (please indicate your preference). At least one author is requested to register for the meeting separately from the abstract submission. The registration includes admission to all Topical Meetings, sessions and additional program.
 

JOURNAL PAPERS IN JEOS:RP

Presenters at an EOS Topical Meeting are kindly invited to consider the submission of a manuscript about their research to the EOS open-access on-line journal JEOS: RP (Journal of the European Optical Society, Rapid Publications, www.jeos.org). A 20% discount will be applied to the author fee. JEOS:RP publishes articles about recent scientific research and technological innovation as well as review papers about a topic in science or innovation from the recent past. A contribution should be original and will be subjected to the journal’s standard anonymous peer review process for scientific quality. The average time-to-publication of the journal is of the order of 75 days.

Further information: .pdf

Europäische Halbleiterlaser Workshop 2016

Dieses Jahr wird der "Europäische Halbleiterlaser Workshop 2016" (European Semiconductor Laser Workshop 2016, ESLW 2016) vom 23-24 September 2016 an der Technischen Universität Darmstadt, in Darmstadt stattfinden.

Der Workshop zielt darauf ab ein informelles Diskussionsforum für aktuellste Entwicklungen im Feld der Halbleiterlaser (Experimente, Simulationen, Anwendungen) sowie der Halbleiterlasertechnologien sowohl aus dem universitären als auch dem industriellen Umfeld innerhalb Europas bereitzustellen.

Die Internetpräsenz finden Sie unter: http://www.eslw2016.tu-darmstadt.de

1. Optaver Kolloquium

Am 21. September 2016 findet an der Friedrich-Alexander Universität (FAU) Erlangen-Nürnberg ein Seminar für optische Aufbau- und Verbindungstechnik (1. OPTAVER Kolloquium) statt.

Die DFG-Forschergruppe OPTAVER ist Veranstalter. Es werden die aktuellen Forschungsergebnisse zum Design, der Simulation und der fertigung von gedruckten Wellenleitern auf Polymerbasis sowie zur Herstellung zugehöriger Koppelelemente vorgestellt.

Außerdem sind mehrere Gastredner eingeladen, Ihre aktuellen Ergebnisse aus Forschung und Industrie zu diesem Forschungsgebiet vorzustellen.

Veranstaltungsort: Hörsaalgebäude der naturwissenschaftlichen Fakultät der FAU in Erlangen.

Weitere Informationen: Flyer_OPTAVER_Kollquium.pdf

JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloqium 2016

Auch im 2. Halbjahr 2016 findet dieses Optikkolloqium in Jena mit mehreren interessanten Vorträgen statt.

Die Übersicht für das 2. Halbjahr 2016: Plan_2016.pdf

Den Auftakt mit dem 455. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquim am 20. September übernimmt Prof. Dr. Herbert Gross, Friedrich-Schiller-Universität. Sein Thema "Optische Systeme mit Freiformflächen".

AEON-Schulungen

AEON bietet in diesem Herbst wieder die bewährten Schulungen zur Technischen Optik und zum Standard EMVA 1288 zur objektiven Charakterisierung von Kameras und Bildsensoren an.

Referent: Prof. Dr. Bernd Jähne

Montag, 12. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Technische Optik für Bildverarbeiter
Weitere Informationen / Anmeldung: Technische Optik für Bildverarbeiter
Einladungsflyer

Dienstag, 13. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Bildsensoren (empfohlen als Vorkurs zu den nachfolgenden Schulungen)
Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Vorkurs Bildsensoren
Einladungsflyer

Mittwoch, 14. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - GRUNDKURS
Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Grundkurs
Einladungsflyer

Donnerstag, 15. September 2016 von 10:00 bis 17:00 Uhr

Charakterisierung digitaler Kameras nach EMVA 1288 - AUFBAUKURS
Weitere Informationen / Anmeldung: EMVA-1288-Standard - Aufbaukurs
Einladungsflyer

 

Angewandte, diffraktive Optiken

Am 6. und 7. September 2016 bietet CETIP by Optence das zweitägige Seminar "Angewandte, diffraktive Optiken" an.

Veranstaltungsort: Hochschule Darmstadt, Gebäude C10, Schöfferstr. 3, Darmstadt

Referenten:    Prof. Dr. Steffen Reichel, Hochschule Pforzheim und Hochschule Darmstadt

                        Dr. Hagen Schweitzer, LightTrans

Dieser Kurs stellt in kompakter Form die notwendigen theoretischen Grundlagen zusammen, mit deren Hilfe zuerst Fresnel-Zonenlinsen und DOEs zur Laserstrahlformung „von Hand“ designed werden können.

Basierend auf diesen Grundlagen-Designs wird dann am zweiten Tag DOEs mittels der Software VirtualLab Fusion konkret designed und die entwickelten Phasen in mikrostrukturiere Höhenprofile umgesetzt.

Weitere Informationen finden sie hier: .pdf

PCNSPA Conference 2016 - Photonic Colloidal Nanostructures: Synthesis, Properties, and Applications

The PCNSPA Conference 2016 - Photonic Colloidal Nanostructures: Synthesis, Properties, and Applications

St. Petersburg, Russia, June, 27 - July 1, 2016: http://lpc.ifmo.ru/pcnspa/

The PCNSPA Conference 2016 will provide an international forum for physicists, chemists, biologists, material scientists, polymer scientists, chemical engineers and researchers in Photonic colloidal nanostructures to gather and discuss their latest results in one of the most exciting fields of contemporary research, and to develop and extend their international collaborations.

Confirmed Invited Speakers: http://lpc.ifmo.ru/pcnspa/page/31/Speakers.htm
The PCNSPA Conference 2016 is already endorsed, among others, by the EOS: http://www.myeos.org/taxonomy/term/6/0

454. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium

Das 454. JENAer Carl-Zeiss-Optikkolloquium findet am Dienstag, dem 14. Juni 2016, um 15.30 Uhr im Aktionsraum der Carl Zeiss AG statt.

Herr Prof. Dr.-Ing. Lothar Wondraczek, Universitaet Jena, Otto-Schott-Institut fuer Materialforschung, spricht zum Thema

"Neue Wege zu optischen Glaesern".

Weitere Informationen: .pdf

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